9月16日，由中建三局承建的年产30500吨集成电路关键工艺材料项目（上海芯刻微项目）正式开工，标志着上海化学工业区电子化学品专区建设迈入新阶段。
该项目位于上海市化学工业区，总建筑面积约7.07万平方米，涵盖办公大楼、研发中心、控制室、甲/乙/丙类厂房及仓库、动力厂房、危废仓库、事故水池、管架等18个单体建设内容，致力于打造国内领先的集成电路关键工艺材料研发生产基地。项目是上海市重大工程项目、上海化学工业区电子化学品专区重点项目。
项目规划形成年产30500吨集成电路关键工艺材料产能，产品体系涵盖年产500吨I线、KrF、ArF干法/湿法光刻胶，年产5000吨光刻胶稀释剂，年产5000吨高选择比氮化钛刻蚀液，年产15000吨干法蚀刻清洗液，年产5000吨芯片铜互联电镀液五大系列。
该项目的建设将进一步巩固芯刻微在半导体材料行业的领先地位，推动光刻胶及配套试剂、干法蚀刻清洗液及刻蚀液等关键工艺材料走向规模化产业化。项目将助力上海完善集成电路产业链、打造世界级集成电路产业集群；同时服务国家集成电路产业自主可控战略，突破高端光刻胶“卡脖子”瓶颈，实现国产化替代，为我国芯片制造关键材料自主可控提供坚实支撑。
项目建成后，将成为展示上海集成电路关键材料自主创新能力和产业活力的重要窗口，为上海建设具有全球影响力的集成电路产业高地增添新亮点。
